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江苏鲁汶仪器

江蘇魯汶儀器有限公司成立于2015年9月，由比利時魯汶儀器、中國科學院微電子研究所等共同組建。公司總部位于江蘇省徐州市，在北京設有研發(fā)中心，在上海、廣州、西安、成都、臺灣省新竹、新加坡、韓國光州等地設有市場和技術服務中心。

【團隊】公司擁有國際化的專家團隊和蘇北地區(qū)首家“諾貝爾獎得主工作室”。技術團隊由諾貝爾獎獲得者、三名國家級專家、多名國內外半導體領域知名教授、資深工程師、及高校科研院所的年輕技術骨干組成。

【核心技術】作為以創(chuàng)新為主導的全球性高科技半導體裝備企業(yè)，魯汶儀器以其國際化團隊研發(fā)出全球領先的磁存儲器刻蝕系統(tǒng)，離子束刻蝕系統(tǒng)，等離子鍍膜系統(tǒng)，金屬沾污檢測系統(tǒng)等，為先進的集成電路產線提供了各類裝備和工藝解決方案。

【產品】公司主要產品為基于等離子體技術的12英寸和8英寸刻蝕和沉積設備，包括RIE，ICP，IBE以及PECVD和ICP-CVD。部分機臺兼容4英寸到8英寸晶圓，適用于規(guī)?；a線和中試研發(fā)線等。LMEC平臺刻蝕系統(tǒng)是公司的核心專利產品。該機臺在同一個真空系統(tǒng)中集成了RIE刻蝕、IBE刻蝕和PECVD沉積等多個腔室，可以有效地刻蝕以金屬材料為主要成分的磁隧道結，具有側壁陡直、等離子體損傷小、刻蝕產率高等特點，為室溫下難以形成揮發(fā)性刻蝕產物的材料提供了獨特的刻蝕工藝解決方案，適用于磁存儲器、磁傳感器和其它以磁隧道結為基礎的自旋電子學器件的生產和研發(fā)。金屬刻蝕系統(tǒng)是面向8英寸集成電路晶圓制造的量產型設備，可提供優(yōu)異的工藝質量和產能，適用于0.11um及以上技術代的鋁互連工藝。氣相分解金屬沾污收集系統(tǒng)（VPD）是魯汶儀器自主研發(fā)的核心產品之一，可應用于先進集成電路制造，大晶圓生產和回收，先導工藝研發(fā)等領域的金屬沾污控制。

員工待遇

帶薪年假，雙休，五險一金，法定節(jié)假日，外地員工提供宿舍，股權激勵，定期培訓，免費三餐，定期團建，年度加薪，年終獎金，免費體檢

企業(yè)文化

【愿景】成為半導體關鍵裝備和解決方案的首選供應商。

【使命】面向半導體前沿技術需求，推動芯片制造技術改革，提供從裝備研發(fā)、生產到技術支持的完整服務體系。

【價值觀】“求實、創(chuàng)新、責任、信賴、分享”

公司地址

江蘇省徐州邳州經濟開發(fā)區(qū)遼河西路8號 （半導體材料與設備產業(yè)園）

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